Epson, marca de impresión e imagen digital, presentó durante la Semana de la Moda de Nueva York, el Digital Couture Project, una iniciativa original que integra moda y tecnología, en donde diseñadora ecuatoriana representó al país de mejor manera.

El evento se llevó a cabo en Industria Superstudios y contó con la presencia de miembros destacados de la prensa internacional, élite del mundo de la moda, farándula y socialité neoyorquino.

Los asistentes pudieron disfrutar de una velada deslumbrante, con modelos que vistieron las colecciones de los diseñadores: Pilar Briceño de Colombia; Dual de Costa Rica; Ay NotDead de Argentina; Moah Saldaña de Perú; Marco Antonio Farías de Chile; María Elisa Guillén de Cuenca, Ecuador; Pineda Covalin de México; Mariana Morrell de Brasil; Leonor Silva representando al Caribe: Maggie Barry y ESOSA de EE.UU.

Meses después de haber obtenido su título como Diseñadora de Modas por la Universidad del Azuay, María Elisa Guillén se estrenó como profesional en uno de los eventos más glamurosos de la industria textil: estuvo presente en Nueva York, durante la Semana de la Moda exponiendo su trabajo junto a otros diez diseñadores latinoamericanos.

La joven ecuatoriana presentó su propuesta desde el diseño de la tela hasta las prendas confeccionadas, en bocetos inspirados en la flora y fauna ecuatoriana para la selección nacional. Una vez que el jurado la eligió, solicitó una nueva colección; esta vez la característica de su creación fue la combinación de elementos de la naturaleza con la tecnología, como la tendencia de los Rayos X, explica Maria Elisa al Diario el Mercurio: “consiste en mirar por debajo de la superficie, donde encontramos formas interesantes”.

Fuente: Tiempo y Mercurio